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高端光刻機曝光光學系統
Epolith A075型曝光光學系統

Epolith A075型曝光光學系統是“國家科技重大專項02專項”的核心研究成果之一,是我國首套具有全部自主知識產權的90nm節點光刻機曝光光學系統。該套系統包括照明系統與投影物鏡系統兩大組成部分。其工作原理為193nm ArF準分子激光首先由照明系統進行整形和勻光后為掩模面提供特定模式照明,經照明后的IC掩模圖形經投影物鏡以極高分辨率和極低畸變成像到涂膠硅片面上,最終實現IC掩模圖形的完美復制。

公司采用面向復雜產品研發的集成化產品開發(IPD)策略及基于產品全生命周期管理的系統工程理念,成功實現了首套國產高端光刻機曝光光學系統的研制與交付。Epolith A075型曝光光學系統的研制成功,標志我國超精密光學技術已躋身國際先進行列,并為浸沒式光刻機曝光光學系統的研發與產業化奠定了良好的技術與產業化基礎。

特性描述

國內首套面向90nm工藝節點、ArF激光光源、大數值孔徑NA0.75、大視場、高速動態補償、離軸照明、高均勻性照明 

規格參數

型號

Epolith A075

工作波長

193 nm

數值孔徑

0.75

視場

26 mm×10.5 mm

波前像差(RMS, Z5-Z37)

≤5.1 nm

畸變(NCE)

≤5.7 nm

Y向照明分布的靜態積分沿X軸的分布均勻性

≤0.8%

光瞳橢圓度

≤4%

曝光結果

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